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氧化铌靶材（Nb2Ox）

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  • 技术参数
氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，喷涂尺寸根据客户要求定制。
氧化铌平面靶采用冷压烧结工艺，尺寸可根据客户要求加工。
纯度：99.99%
应用领域：薄膜太阳能工业、低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，工具装饰镀膜工业

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